光刻膠用基礎樹脂

明和化成的光刻膠用基礎樹脂根據客戶要求進行生產。
另外記載以外的產品可特殊訂製。
間甲酚/對甲酚比,分子量,DR或甲酚以外的酚醛樹脂單體,甲醛以外的有交聯聚體樹脂,
也可根據客戶需要求進行樣品試生產。
此外,可據客戶的要求特性特殊定制,歡迎隨時垂詢。

光刻膠用基礎樹脂

m/p比 分子量Mw [ - ] DR[Å/s] 特長
80/20 2400~2900 3400~4600  
3800~4600 1700~2300  
50/50 9000~11000 220~280  
12000~15000 130~170  
16000~20000 85~115  
40/60 3100~3800 950~1250  
5300~6400 280~380  
3700~4500 680~920 二聚体5%>
4700~5700 340~460 二聚体5%>
※現像液2.38%TMAH
光刻膠

“抗蝕劑”有「抵抗」「耐」等意思,作為產品是指「可耐酸和鹼等化學處理的物質」。
光刻膠是在半導體和液晶面板的製造工程中,作為形成電路圖案的材料使用。
光刻膠通過光照射發生物理・化學變化,利用此原理可形成電路圖案。
具體為,塗覆光刻膠經光罩曝光。形成被轉印電路圖案。
圖案曝光部分溶於顯影液形成正性光刻膠和曝光部分殘留形成負性光刻膠。
作為光刻膠的基礎樹脂,酚醛樹脂被應用於此。

有關光刻膠 (液晶用的使用方法)

光刻膠使用在TFT元件和透明電極在玻璃基板上形成時。
光刻膠的基礎樹脂,需要使用酚醛樹脂。



※上述數據為代表值,並非保證值。